Типы сооружений для обработки осадков: Септиками называются сооружения, в которых одновременно происходят осветление сточной жидкости...
Кормораздатчик мобильный электрифицированный: схема и процесс работы устройства...
Топ:
Процедура выполнения команд. Рабочий цикл процессора: Функционирование процессора в основном состоит из повторяющихся рабочих циклов, каждый из которых соответствует...
Установка замедленного коксования: Чем выше температура и ниже давление, тем место разрыва углеродной цепи всё больше смещается к её концу и значительно возрастает...
Характеристика АТП и сварочно-жестяницкого участка: Транспорт в настоящее время является одной из важнейших отраслей народного...
Интересное:
Мероприятия для защиты от морозного пучения грунтов: Инженерная защита от морозного (криогенного) пучения грунтов необходима для легких малоэтажных зданий и других сооружений...
Финансовый рынок и его значение в управлении денежными потоками на современном этапе: любому предприятию для расширения производства и увеличения прибыли нужны...
Отражение на счетах бухгалтерского учета процесса приобретения: Процесс заготовления представляет систему экономических событий, включающих приобретение организацией у поставщиков сырья...
Дисциплины:
|
из
5.00
|
Заказать работу |
Содержание книги
Поиск на нашем сайте
|
|
|
|
| Выдерживаемый размер |
| Погрешность базирования Деб |
| Базирование |
| Схема установки |
По двум плоским поверхностям
| О |
| А |
|
| Thtgoi при ос^90° О при а-90° ТН |
Обработка уступа
| к |
ТЕ
| По наружной цилиндрической поверхности В призме при обработке плоской поверхности или паза |
| н. |
| 0,5 77) I sin а при р = а -г- 90е |

| oWi-8"^ \ sin а при р = 0ч-а |
| Я, |
| \ sin а / |
sin L
0,5 ТО
sin а
| Я, |
где TD — допуск на наружный диаметр заготовки
| По наружной цилиндрической поверхности В призме при обработке плоской поверхности или паза при Р = 90 |
| 0,5 TD[ —1------ 1 sin а |
| Я, |

| 0,5 77) (------ + 1 sin а |
| Я7 |
| Я, |
0,5 га—
|
| 0,5 TD |
| я, |
| 0,5 TD |
| Я, Я? |
| 0,5 TD |
То же, при Р = 0°
В призме при обработке плоской поверхности или паза
Н\
| Н7 |
TD
| Выдерживаемый размер |
| Базирование |
| Схема установки |
Продолжение табл. 18
Погрешность базирования Аеб
| Н\ Н7 |
| TD |
| Нг |
| 0,5 77) |
То же, при 2ct= 180° и зажиме призмой
|
| То же, но призма выполнена со сферическими опорами |
| #1 |
|
| Я, |
А - 0,577)
А + 0,577)
A = \/(r + 0,5Dmin + 0,5TD¥- -0,5L2-j/(r + 0,57)min)2-
— 0,25L2, где L — расстояние между центрами опор
| 0,577>( 4sina при h >0,57) 0,577)----- при А = 0,57) sin a |
В призме при сверлении отверстий по кондуктору
|
0,577)(—1— + 1 \sina
при h <0,57)
|
| 0,5 77) при любом h |
То же, при 2а = 180° и зажиме призмой
е — эксцентриситет оси отверстий относительно наружной поверхности
| То же, но при использовании самоцентрирующихся призм |

| , KWN4, У///А, |
| k\\\4 V///A |
е = 0
| 0,577)-h2e + 5i +62 + 2Д |
| 77i; 7/? |
|
| 2е + 51+52 + 2Д |
| Н, |
| 5j + 52 + 2Д |
| Я4 |
По отверстию На палец установочный цилиндрический (оправку) с зазором при обработке плоской поверхности или паза
| Выдерживаемый размер |
| Схема установки |
| Базирование |
Продолжение табл. 18
Погрешность базирования Двб
| 0,57D + 2e + 0,5 52 |
| Нл; Я> |
|
| 2е + 0,5б! + 0,5 62 |
| Нх |
| 0,5 5!+0,5 62 |
| НЛ |
То же, но с односторонним прижатием заготовки
| 0,577) + 2е |
| Н\; я2 |
| 2е |
| Н, |
| о |
| НЛ |
На палец (оправку) с натягом или на разжимную оправку
|
| Я]; Н2 |
| щШ L Ш- |
На палец (оправку) с зазором. Торец заготовки неперпендикулярен оси базового отверстия
0,5ГО + 2г + 5,+52 + + 2Д — 2/tga
| 0,577) + 2<? + 0,552+/tga |
| Н\; //2 |
То же, но с односторонним прижатием заготовки
| 6/+2rtgy |
| Li |
| А |
На палец (оправку) без зазора. Торец заготовки неперпендикулярен оси базового отверстия
up
По центровым гнездам
| Sz. + Ав |
| L1 |
| &в- |

| Ап = - |
| Lit |
| Li |
| tga |
На жесткий передний центр
Продолжение табл. 18
Примечания:1. На схемах 10—16 и 19: #3 — размер от обрабатываемой поверхности до оси наружной поверхности; Н4 —то же, до оси отверстия; е— эксцентриситет наружной поверхности относительно отверстия; 5] — допуск на диаметр отверстия; 8-. — допуск на диаметр пальца; А — минимальный радиальный зазорпосадки заготовки на палец; 6/—допуск на длину заготовки. 2.Погрешность базирования в схемах 11 — 16 включает погрешность приспособления Аепр. 3. На схеме 17: 8,/ — допуск на диаметр центрового гнезда; а — половина угла центрового гнезда; Ац — погрешность глубины центрового гнезда (просадкацентра). При угле центра 2а= 60° просадку центров Ац можно принимать:
|
Наибольший диаметр центрового гнезда, мм 1; 2; 2,5 4; 5; 6 7; 5; 10 12,5; 15 20; 30
Ац, мм............................................. 0,11 0,14 0,18 0,21 0,25
Основные принципы базирования заготовок. 1. При высоких требованиях к точности обработки необходимо выбирать такую схему базирования, которая обеспечивает наименьшую погрешность установки.
2. Для повышения точности деталей и собранных узлов необходимо применять принцип совмещения баз — совмещать технологическую, измерительную и сборочную базы.
3. Целесообразно соблюдать принцип постоянства базы. При перемене баз в ходе технологического процесса точность обработки снижается из-за погрешности взаимного расположения новых и применявшихся ранее технологических баз.
Для установки заготовок на первой операции технологического процесса используют черные (необработанные) поверхности, применяемые в качестве технологических баз. Эти поверхности используют однократно, при первой установке, так как повторная установка на необработанную поверхность может привести к значительным погрешностям во взаим- нрм расположении обработанных при этих установках поверхностей. Для заготовок, полученных точным литьем и штамповкой, это правило не является обязательным.
Выбранная черная база должна обеспечивать равномерное распределение припуска при дальнейшей обработке и наиболее точное взаимное расположение обработанных и необработанных поверхностей деталей.
На первых операциях технологического процесса обрабатывают базы (обычно это основные плоские поверхности, отверстия детали). В тех случаях, когда поверхности детали не удовлетворяют требованиям, предъявляемым к базам, и по своим размерам, формам или расположению не могут обеспечить устойчивой установки, на детали создают искусственные базы (центровые отверстия, пла- тики, выточки или отверстия). Условные обозначения опор приведены в табл. 19 и 20, а примеры их применения — в табл. 21.
При неоднократном базировании заготовок происходит изнашивание и смятие поверхностей заготовок, используемых в качестве баз. Смещения заготовки, связанные с этим явлением, учитывают при расчете погрешности установки Аеу.
|
|
|
Двойное оплодотворение у цветковых растений: Оплодотворение - это процесс слияния мужской и женской половых клеток с образованием зиготы...
Индивидуальные и групповые автопоилки: для животных. Схемы и конструкции...
Механическое удерживание земляных масс: Механическое удерживание земляных масс на склоне обеспечивают контрфорсными сооружениями различных конструкций...
Биохимия спиртового брожения: Основу технологии получения пива составляет спиртовое брожение, - при котором сахар превращается...
© cyberpediasu.com 2017-2026 - Не является автором материалов. Исключительное право сохранено за автором текста.
Если вы не хотите, чтобы данный материал был у нас на сайте, перейдите по ссылке: Нарушение авторских прав. Мы поможем в написании вашей работы!